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北京歐屹科技參加第23屆中國國際光電博覽會 (CIOE 2021)
發布時間:2021-09-15   點擊次數:1891次

CIOE光博會

作為具規模及影響力的光電產業綜合性展會,第23屆光電博覽會將于2021年9月16-18日在深圳國際會展中心舉辦,同期六展覆蓋信息通信、激光、紅外、紫外、精密光學、鏡頭及模組、傳感等版塊,面向光電及應用領域展示前沿的光電創新技術及綜合解決方案,掌握行業最新動向、洞察市場發展趨勢、助力企業與光電行業上下游進行商貿洽談,達成商業合作。北京歐屹科技有限公司此次受邀參展。

在此次展會上,歐屹科技精心準備,帶來行業內性價比高的產品,主要展出:雙折射測量儀,應力測量儀,白光+激光共聚焦顯微鏡,激光干涉內徑測量儀,奈米級三維形貌儀、無掩膜光刻機等精密光學儀器。

相信通過此次展會的交流,客戶對歐屹科技會有一個新的認識,對歐屹科技帶來的產品有更進一步的了解,為后續的合作打下基礎。

微信圖片_20210917113649.jpg

展品介紹:

1, 應力測量儀

來自日本PHL公司的PAWPA系列雙折射應力測量儀,業內*超過70%。其中PA系列,廣泛應用于玻璃、各種鏡頭、人工晶體、SIC、藍寶石,晶圓等透明或半透明內部缺陷,雙折射變化,內部應力分布的測量。WPA系列,高達0-3500nm相位差范圍,幾乎適用于所有的透明半透明樣品的雙折射應力測量,特別是 高分子材料,注塑成型制品,薄膜(位相膜)應用廣泛,測量數據準確,軟件功能強,使用方便快捷。

pa.jpg

2, 白光+激光共聚焦顯微鏡

 

日本的Lasertec公司的激光+白光共聚焦顯微鏡是白光&激光共聚焦融合,實現一般激光(白光)共聚焦顯微鏡無法實現的高性能與多功能,以雙共聚焦光學系為基礎,搭載微分干涉觀察,垂直白光干涉測定,相差干涉測定,反射分光膜厚測量等功能,通常多臺設備才能完成的測量,僅需我們的一臺設備就可實現。儀器特點:高放大倍數,高分辨率,高對比度,納米級異物或損傷的可視化,納米級透明膜的厚度測量,埃米級型狀測試,數毫米寬視野范圍納米型狀測量。

共聚焦顯微鏡.jpg

3, 激光干涉內徑測量儀

Adamand Namiki開發了NMH-01通過微電機和光學成像探頭,利用光學干涉實現內型面的測量,內徑測量最小可達1.1mm,同時測量內徑、真圓度、內型表面粗糙度和形貌。

 

 

內徑測量儀.jpg

4, 無掩膜光刻機

無掩膜光刻機UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結合的縮小投影型無掩模曝光系統,其價格底于傳統系統(用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統) ,可以使用專門為此目的開發的軟件來創建想要的圖案。

無掩膜光刻機.jpg

 

 

 

 

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